Тестовая структура

MDT-file: Загрузить

Тестовая структура на основе решетки из полос SiO2 высотой 0,1 мкм с шагом 3µm на кремниевой подложке.  Было проведено внедрение ионов бора с E=100 keV,  отжиг и стравливание слоя SiO2. На полученной структуре (см. ниже) получены следующие изображения: Рис. 1. - рельеф поверхности, Рис. 2 - профиль сечения поверхности структуры, Рис. 3 - изображение, полученное на том же участке поверхности с применением контактной СЕМ, Рис. 4 - профиль сечения контатного СЕМ изображения.

Изображение предоставлено В. Поляковым, НТ-МДТ, Москва, Россия.


test_str_n
test_str_n
Тестовая структура

Тестовая структура на основе решетки из полос SiO2 высотой 0,1 мкм с шагом 3µm на кремниевой подложке.  Было проведено внедрение ионов бора с E=100 keV,  отжиг и стравливание слоя SiO2. На полученной структуре (см. ниже) получены следующие изображения: Рис. 1. - рельеф поверхности, Рис. 2 - профиль сечения поверхности структуры, Рис. 3 - изображение, полученное на том же участке поверхности с применением контактной СЕМ, Рис. 4 - профиль сечения контатного СЕМ изображения.

Изображение предоставлено В. Поляковым, НТ-МДТ, Москва, Россия.


size: 18x28 um
Остались вопросы? Позвоните нам по телефону: +7-499-110-2050
или заполните форму обратной связи, и мы ответим на все интересующие Вас вопросы.